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讲准字199号:基于原子层沉积的新型功能纳米材料设计及应用

发布时间:2015-10-10|浏览次数:

题目:基于原子层沉积的新型功能纳米材料设计及应用

主讲:覃勇

时间:10月16日10:00

地点:科学研究院7楼会议室(分析测试中心七楼)

主办:科学研究院


 

主讲简介:覃勇,中国科学院山西煤炭化学研究所研究员。研究专长:原子层沉积开发及应用、纳米催化、碳纳米材料等。1973年生,博士,研究员,博士生导师。1996年于重庆大学获得学士学位,2001年于青岛科技大学获得硕士学位,2005年于中国海洋大学获得博士学位。2004年7月–2007年3月,在德国锡根大学从事研究工作。2007年4月—2011年9月在德国马普学会微结构物理研究所博士后研究。2011年10月回国到中国科学院山西煤炭化学研究所工作,并入选中国科学院“百人计划”。2013年6月入选山西省“百人计划”,并被聘为山西省特聘专家。主要研究方向为原子层沉积开发及应用、纳米催化、碳纳米材料等。目前主持国家自然科学基金面上项目、中科院“百人计划”择优支持项目、山西省 “百人计划”项目、煤转化国家重点实验室自主课题、山西省基础研究计划等项目。 在Angew. Chem. Int. Ed.、Nano Letters、ACS Nano、Adv. Funct. Mater.、Small等杂志已发表论文60多篇。为Angew. Chem. Int. Ed.、JACS、Adv. Mater.等50多个国际期刊的审稿人。

主讲内容:原子层沉积(Atomic Layer Deposition, ALD)是一种高级的薄膜制备技术。它通过将两种挥发性原料以气体脉冲的形式交替引入反应器,依靠留在样品表面的吸附分子进行反应而生成沉积物。相对于传统工艺而言(如化学气相沉积、溅射、蒸发冷凝等),ALD在沉积层的均匀性、阶梯覆盖率、保形性、重复性等方面都具有突出的优势。利用ALD可实现精确的薄膜厚度控制,精度在埃的级别。利用ALD能够在平面、纳米粒子、纳米线以及多孔结构材料等表面沉积薄膜或者纳米粒子,对样品形貌无特殊要求。利用ALD能够沉积种类广泛的材料,包括金属、氧化物、高分子、碳(氮、硫、硅)化物等,采用ALD设计新型功能纳米材料具有突出的优势。本报告主要介绍原子层沉积在新型能源材料、吸波材料、催化材料等领域的应用。


 

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